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突破力控極限:ACU20PCD壓力控制器在碳化硅(SiC)功率模塊銀燒結工藝中的應用

2026-04-09 10:21:07

一、行業背景:SiC 封裝的“熱”挑戰與銀燒結的崛起


隨著新能源汽車(NEV)向 800V 甚至更高壓的平臺演進,碳化硅(SiC)功率模塊因其出色的耐高壓、高頻和高溫特性,正在加速替代傳統的 IGBT。然而,SiC 芯片的結溫極高,傳統的錫焊工藝(熔點約 220℃)在長期高負荷下極易發生熱疲勞甚至二次熔化。
為徹底解決散熱與可靠性瓶頸,加壓銀燒結(Pressure-Assisted Silver Sintering)已成為高端 SiC 模塊封裝的標配工藝。該工藝利用純銀顆粒在高溫和高壓下的固態原子擴散,形成致密且熔點高達 961℃ 的純銀連接層。在這一過程中,封裝機臺的壓力控制精度直接決定了燒結層的孔隙率與芯片的存活率,是整個封裝設備中最核心的“機電一體化”技術壁壘。

二、客戶痛點:30kN 燒結機臺的苛刻力控需求


國內某頭部車規級 SiC 功率模塊制造商的 30kN(約 3 噸)大面積銀燒結量產產線上,其核心設備采用了“定高壓合+氣缸柔性加壓”的設計。在此架構下,氣路中不設主動增壓機構,唯一的氣源和力控中樞就是前端的比例壓力控制器


客戶在該工藝段面臨三大極其苛刻的力控挑戰:


1、絕不容忍超調(Zero Overshoot)

SiC 芯片極其昂貴且質地極脆。在加壓瞬間,若氣動控制產生壓力超調,氣缸推力的瞬間尖峰會直接壓碎芯片,導致極其高昂的報廢損失。

2、高壓驅動下的極小靜差

為了在 60mm 左右的緊湊氣缸內輸出 30kN 的巨大推力(折算到芯片表面的燒結壓強需達到 15-30 MPa),控制器必須穩定調控高達 10MPa 的氣源壓力,且在長達十幾分鐘的高溫保壓過程中不能出現壓力漂移,否則燒結層極易出現空洞。

3、高分辨率與寬量程兼容

從燒結初期的微壓貼合,到后期的峰值固化,控制器需要在極寬的壓力區間內保持高精度的線性響應,以適應不同尺寸模塊的生產需求。

三、解決方案:ACU20PCD 智能壓力控制器



▲ ACU20PCD  高壓智能壓力控制器(10MPa 標準 / 最高支持 40MPa)


針對上述極限工況,該產線的 30kN 燒結機臺全面批量采用了 ACCU(北京精量科技)型號為 ACU20PCD 的高壓智能壓力控制器,完美攻克了 SiC 銀燒結的嚴苛工藝難點。


核心技術優勢:


? 超高壓流體控制能力(10MPa 標準 / 最高支持 40MPa) 

市面上常規的電氣比例閥通常只能處理 1.0 MPa 以下的低壓空氣。ACU20PCD 憑借卓越的機械閥體設計與耐高壓密封技術,可直接精準調控 10MPa(最高可選配 40MPa) 的高壓氮氣或壓縮空氣。這種降維打擊般的高壓處理能力,使得設備商可以使用極小尺寸的執行氣缸輸出噸級推力,大幅縮小了機臺體積并極大地提升了氣動回路的動態響應速度。

“零”超調的機電閉環算法 

針對 SiC 芯片極易碎裂的痛點,ACU20PCD 內部集成了高頻采樣的精密壓力傳感器與深度優化的 PID 閉環控制算法。在階躍給定信號下,閥芯能夠實現極其平滑的動態尋優,在快速建壓的同時實現真正的“無超調”,如同給設備加上了智能的柔性減震系統,將芯片受力壓碎的風險降至最低。

極致的穩態精度與直觀的數字交互 

ACU20PCD 具有工業級的堅固金屬閥座與直觀的全彩數字交互界面。其穩態控制誤差極低,能夠將設定壓力精準鎖定,確保燒結過程中微米級銀顆粒的持續、均勻受壓,最終幫助客戶壓制出孔隙率極低(<5%)、熱阻極小的高質量導熱層。

▲ 客戶應用反饋實拍圖


四、客戶價值與效益




通過引入ACU20PCD壓力控制器,該客戶的高端銀燒結設備實現了真正的柔性、精準加壓:

良率大幅提升:徹底解決了加壓初期的瞬時沖壓導致的芯片碎裂問題。
工藝一致性極高:高度穩定的高壓輸出,確保了每一批次 SiC 功率模塊內部燒結層的致密度和熱阻一致性,全面滿足了車規級器件的嚴苛檢驗標準。

系統大幅簡化:僅用單一控制器即完成了復雜的高壓力控邏輯,徹底免除了昂貴且笨重的多級氣動增壓或伺服液壓站,降低了設備的整體制造成本與后期維護難度。


結語:

在先進半導體封裝領域,微觀工藝的突破往往依賴于宏觀設備的極致精密控制。ACU20PCD 不僅是一款卓越的壓力控制器,更是連接“氣動控制”與“精密制造”的核心機電樞紐,正為國產高端半導體設備的崛起提供著最堅實的底層流體控制保障。